+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems.ru

Nordiko Technical Services

Сайт компании: www.nordiko-tech.com
Firstnano

Nordiko Inc.


Английская компания Nordiko Inc. (NORDIKO) основана в 1972 году и имеет более чем 40-летний опыт создания оборудования для осаждения материалов в вакууме магнетронами, распыления материалов ионным пучком и осаждения его на подложку (Ion Beam Deposition), травления ионным пучком (Ion Beam Etching). Компания имеет ряд ключевых патентов в области создания источников плазмы и устройств ускорения ионных пучков, которые вылились в создание широкой линейки собственных ионных пушек с диаметрами пучков от 10 до 30 см. Компания NORDIKO долгое время принадлежала японской группе компаний CANON, но в 2011 году была выкуплена и сейчас является частной компанией.


Основные системы и установки:


СИСТЕМЫ С ИОННЫМИ ПУШКАМИ:СИСТЕМЫ ВАКУУМНОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК (PVD):

Осаждение тонких пленок и травление тонких пленок ионными пучками для производства полупроводников (кремний, III-V, II-VI), магнитных головок и сенсоров, MEMS, фотоники, светодиодов - LEDs, ПАВ-устройств, микроболометров и других устройств, возникающих в быстро меняющемся мире нано-исследований.

Установка травления ионным пучком Alpha 120
Установка осаждения тонких пленок при распылении материалов ионным пучком серии 3400
Установка травления ионным пучком модели 7500
Установка травления ионным пучком Mnem-IX

Линейка PVD оборудования компании Nordiko представлена системами для исследований и разработок, а также производственных систем для небольших партий продукции. Каждый процессный модуль может быть выпущен компаний как отдельно-стоящий, так и интегрирован в состав с другими производственными модулями и роботизированными устройствами подачи/выгрузки подложек (кластеры)

Компактная PVD-система осаждения тонких пленок магнетронами серии N2000
Модуль серии 5000 интегрированный в кластер


Основные выпускаемые продукты и компоненты:


  • Травление ионнным пучком (IBE, CAIBE, RIBE)
  • Магнетронное распыление (PVD)
  • Распыление ионным пучком с переосаждением материала на подложку (IBD)

Дополнительная информация:


^ В НАЧАЛО