+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems.ru

Наша компания «Криосистемы» была образована в 2002 году.  Отвечая на запросы заказчиков, ряд поставляемой продукции постоянно расширялся, и в настоящее время компания предлагает широкую линейку вакуумного, криогенного и аналитического оборудования, обеспечивает пусконаладку, гарантийное и постгарантийное обслуживание поставленного оборудования, сервис и дооснащение имеющегося у заказчиков систем и оборудования, консультации.

Какие бы задачи, имеющие отношение к вакуумному оборудованию, ни стояли перед Вами, связано ли это с осаждением пленок в вакууме, травлением структур, очисткой образцов, ионной имплантацией, характеризацией пленок, микроскопией и др., наша компания будет рада узнать Ваши потребности и готова предложить для Вас оптимальное и качественное решение.

 

НОВОСТИ КОМПАНИИ И ПАРТНЕРОВ:

 

Apr 06 2016

Завершен запуск MOCVD-системы, произведенной американской компаниеи firstnano в Институте Общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН

Группа компаний «Криосистемы» завершила пуско-наладочные работы и ввела в эксплуатацию MOCVD-установку от компании Firstnano (www.firstnano.com) в ИОНХе.

Apr 16 2015

Корейские производители на Российском рынке

Группа компаний «Криосистемы» заключила соглашение с корейскими производителями вакуумного и аналитического оборудования о представлении их продуктов на российском рынке.

Apr 06 2016

Новый производитель оборудования из Тайваня в линейке продуктов компании Криосистемы

Группа компаний «Криосистемы» заключила соглашение с тайваньским производителем вакуумного и аналитического оборудования компанией AdNaNoTek (http://www.adnano-tek.com) о представлении их оборудования на российском рынке.

Apr 16 2015

Низко-температурная Фотолитография

Применение техники криогенной конфокальной микроскопии

Apr 16 2015

In situ измерения индуцированного излучением удлинения аморфных микро-столбиков в нанометровом диапазоне

Группа исследователей из Университета Иллинойса разработали и создали устройство для измерения индуцированного излучением повреждений и нагрузок различных структур и материалов в диапазоне нанометровых величин.

^ В НАЧАЛО