Задача Заказчика:
Установка травления ионным пучком специальных пленок многокомпонентного состава, различных подложек для создания «специальных» изделий.
Решение, предложенное Заказчику:
Заказчик получил в свое пользование установку модели 7500 компании Nordiko с источником ионного пучка диаметром 25 см для травления подложек диаметром до 200 мм с загрузочной камерой и интерфейсом в чистую комнату.
Загрузочная камера через интерфейс в чистую комнату: | Столик-манипулятор внутри камеры в процессе сборки системы: |
Масс спектрометр для определения точки окончания процесса травления: | Схематичный вид всей установки: |
Краткая спецификация установки:
- Камера из нержавеющей стали цилиндрической формы
- Полнооткрываемая алюминиевая дверь
- Форвакуумный насос сухого типа компании Kashiyama (30 м3/час)
- Турбомолекулярный высоковакуумный насос на магнитной подвеске компании Shimadzu
- Водяное охлаждение столика для подложек
- Вращение столика подложек до 60 об/мин
- Возможность автоматического регулирования угла наклона столика подложек относительно Ионного источника от 0 до 90°
- Датчик вакуума с холодным катодом (инвертированный)
- ВЧ Ионный источник диаметром 25 см
- Трансформаторная система согласования импеданса с автоматической подстройкой
- Макс. Энергия ионного пучка – 600 Вт
- ВЧ Генератор 600 Вт, 13.56 МГц
- 2 нейтрализатора ионного пучка без накальных катодов
- Два канала подачи рабочих газов
- Две линии подачи газов для нейтрализаторов ионного пучка
- Загрузочная камера с магнитным манипулятором (Load Lock)
- Интерфейс в чистую комнату
- Автоматическое управление установкой
Данные по однородности травления термически осажденной пленки оксида кремния (SiO2) во время пуско-наладочных работ:
- Диаметр пластины-образца: 150 мм;
- Диаметр области замера: 130 мм;
- Кол-во точек замера в области замера: 29 точек.