Задача Заказчика:

Заказчику требовалась установка для мелкосерийного осаждения резистивных пленок на подложки из поликора размерами 48х60 мм методами распыления материалов типа NiCr, РС-3710 и др.

Решение, предложенное Заказчику:

Установка модели TFSP-840 изготовленная израильской компанией VST. Установка имеет в составе два диаметрами мишеней 100 мм и ВЧ источник питания на 1 кВт. Откачка полностью сухая и состоит из турбомолекулярного насоса на магнитной подвеске компании Shimadzu и спирального насоса японской компании Anest Iwata. Подложкодержатель плоского типа с возможностью размещения 16-и подложек из поликора или другого материала. Для предочистки подложек используется электрод с подачей постоянного напряжения, который создает область плазменного разряда, что позволяет мягко очистить поверхность подложек перед напылением от остаточных паров воды и углеводородов.

Фотографии поставленной установки:

При напылении резистивных пленок была  использована стандартная апертурная маска, форма которой за 4-е тестовых напыления была правильно подобрана, что привело к получению однородности напыления +/- 1,75%, далее маска была еще доработана, что привело к получению однородности +/- 1,3%. Ниже показаны кривые измеренных параметров поверхностного сопротивления 4-х последовательных образцов при подборе маски: