Задача Заказчика:

Термическое нанесение покрытий хрома в вакууме.

Решение, предложенное Заказчику:

Сверхвысоковакуумная установка для осаждения многослойных пленок разных материалов с упором на исследование так называемых MAX-фаз, нового класса материалов с потенциально новыми свойствами

MAX-фазы описываются формулой Mn+1AXn, где М — переходный металл, А — элемент IIIA или IVA подгруппы периодической системы, Х — углерод или азот.

Решение, предложенное Заказчику:

Высоковакуумная установка с основной (рабочей) и загрузочной камерой.

Рабочая камера установки горизонтального типа и имеет две фокусных точки. В первой фокусной точке на образец материала можно напылять 4 различных материала с высоковакуумных магнетронов (источников) и градиент толщины напыляемой пленки можно автоматически варьировать в X/Y плоскости. Вторая фокусная точка зарезервирована под осаждение на исходный образец пленок методом лазерной абляции дополнительных 4-х материалов.

Фото установки:

Краткая спецификация установки

Установка с двумя вакуумными камерами, UHV-типа

Турбомолекулярный насос на загрузочной камере, турбомолекулярный и ионный (+TSP) насосы на основной камере

Манипулятор подложек с осями перемещения в плоскостях XYZ для подложек диаметром 25 мм

Вращение подложки на манипуляторе θ±180°

Блок нагрева подложек на манипуляторе до 950°С

Блок охлаждения подложек до азотных температур

Источники испарения материалов:

UHV Магнетроны (4 шт)  с диаметром мишеней 50 мм

Источник питания магнетрона ВЧ-типа (500 Вт, с согласующим устройством)

Источник питания на постоянном токе, 1000 Вт

X/Y Заслонки градиента.

Источник ионов для очистки образца перед напылением

Параметры источника 0- 2 kV (10 µA)

Манипулятор 4-х мишеней для лазерной абляции

Масс-спектрометр остаточных газов