Задача Заказчика:

CVD-установка газо-фазного осаждения для синтеза пленок карбида кремния с использованием газообразных и жидких источников.

Решение, предложенное Заказчику:

Заказчик получил в свое пользование CVD-установку модели EasyTube 3000 компании Firstnano с ВЧ-нагревом образцов до температуры 1500 °С.

Краткая спецификация установки:

• Кварцевый реактор с двойными стенками для работы с подложками диаметром до 2'' (50 мм).
• Загрузочная камера.
• Компьютерная система управления.
• Шесть (6) линий подачи газа с индивидуальным контролем потока каждой линии.
• Система подачи паров жидких прекурсоров типа MTS при пониженном давлении в реакторе.
• Статический миксер для оптимального смешивания газовой смеси.
• Интегрированная система автоматического контроля низкого давления для создания и поддержания пониженного давления в процессе синтеза.
• RF – высокочастотный нагрев.
• Рабочая температура процесса до 1500⁰ С.
• Опция вращения подложки для улучшения однородности покрытия.