Задача Заказчика:

CVD-установка газо-фазного осаждения для синтеза пленок Графена и других углеродных наноструктур.

Решение, предложенное Заказчику:

Ввиду ограниченного бюджета на первом этапе обсуждения будущей установки было принято решение отказаться от чуть более дорогой установки модели easyTube_101 от американской компании Firstnano, ранее запущенной в Рижском Универсистете и рассмлотреть Южно корейского производителя. В итоге Заказчик получил в свое пользование CVD-установку модели planarGrow-2S компании PlanarTech с кварцевым реактором и перемещаемой вдоль него резистивной печью с нагревом образцов до температуры 1100 °С.

Краткая спецификация установки:

Установка сконфигурирована для синтеза графена и углеродных нанотрубок на образцах из медной фольги или других подложек и включает в себя:

• Полный набор кварцевых компонентов:
• Рабочая труба (реактор) Ø50 мм х 1000 мм
• Трубка-держатель образцов
• Компьютерную систему управления:
• Персональный компьютер с Windows XP
• PLC-контроллер с интерфейсом labVIEW
• Монитор 19''
• Четыре входных (4) линий подачи газа с индивидуальным контролем потока каждой линии для Аргона, Углерод-содержащего газа (типа Метана или Ацетилена), Водорода и NH3
• Блок управления вакуумом и давлением
• Конвекционный датчик
• Контроллер конвекционного датчика
• Емкостной датчик
• Дроссельный клапан
• Контроллер давления и потока
• Пластинчато-роторный насос
• Стадия нагрева:
• Однозонная печь с внутренним температурным контролем
• Зона нагрева 200 мм
• Рабочая температура процесса до 1100⁰ С
• Термопара тип К
• Блок управления линейным перемещением печи