Задача Заказчика:

Высоковакуумная установка для исследовательских задач осаждения тонких пленок различными методами: испарением мишеней лазером, испарением материалов из эффузионных ячеек, распылением мишеней с UHV, испарением материалов из электронно-лучевого источника.

Решение, предложенное Заказчику:

См. спецификацию установки ниже.

Краткая спецификация установки:

• Сверх-высоковакуумная цилиндрическая рабочая камера из нержавеющей стали с электрополировкой, специальный дизайн для MBE/PLD-применений.
• Внутренний диаметр камеры около 305 мм (12'').
• Передняя дверь камеры полнооткрываемая для доступа к внутренним компонентам камеры диаметром   355 мм (14'').
• На двери камеры находится дифференциальный порт откачки для высоковакуумных применений.
• Вакуумная система откачки представлена турбомолекулярным насосом производительностью 300 л/с, и сухим спиральным форвакуумным насосом. В установке возможно создать рабочее давление менее 2 х 10^-10 Торр при дополнительном прогреве установки.
• Манипулятор (держатель подложек) специальной конструкции с возможностью Z- перемещения. Размер подложки – 1” (25 мм). Интегрированный в манипулятор нагреватель обеспечивает предварительный прогрев образца  до 850°.
• Манипулятор мишеней для испарения их лазерным излучением. На манипуляторое можно разместить 6 мишеней с возможностью индексирования (перемещения) мишеней в позицию распыления (in situ). Размер любой из 6-и мишеней – 1'' (25 мм).
• Шлюз для загрузки образцов/ мишеней. Базовое давление в шлюзе 5 х 10-8 Торр.
• Ионизационный датчик с функцией линейного перемещения в позицию перед подложкой (и обратно) для калибровки потока испаренного материала in situ.
• Криоэкран (криопанель) внутри вакуумной камеры с вырезами под источники и под все нужные для использования фланцы.
• Масс-спектрометра  остаточных газов, диапазон масс 1-200 amu.
• Две эффузионных ячейки объемом 16 мл.
• UHV с диаметром мишеней 25 мм и заслонкой пневматического типа.
• Источник питания ВЧ-типа для распыления как проводящих, так и не проводящих мишеней (600 Вт, с согласующим устройством).

• Электронно-лучевой источник для испарения материалов.
• Эксимерный лазер:
•       Длина волны: 248 нм (KrF)
•       Макс. Энергия импульса: 400 мДж

• Источник плазмы для расщепления молекулярных связей газов: Кислорода, Азота и Водорода и создания достаточного атомарного потока для высококачественного роста оксидных и нитридных материалов, а также для очистки поверхности подложек.
• Устройство для анализа спектра излучения факела плазмы, образующегося при лазерном распылении материала.

Наиболее подробное описание проекта на сайте иркутского Университета