+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems.ru


TFDS-663VST

Осаждение тонких пленок методами термического испарения материалов


tfds 663 tfds 663

 

Область применения:


Установка с двумя параллельными вакуумными камерами и единой системой откачки. Предназначена для производственных применений, где требуется высокая производительность и небольшой бюджет.

Техническая спецификация:


 Базовое давление:  2Х10-7 Торр
 Среднее время откачки:  90 минут (откачка сухого N2)
 Насосы:  Крионасос, механический масляный пластинчато-роторный насос
 Ловушка:  Окись алюминия
 Камера:  Охлаждаемая водой, внутренний диаметр 18”, высота 20”, нержавеющая сталь
 Смотровые окна:  Два смотровых окна, внутренний диаметр  4”, с заслонками
 Нижняя пластина:  Внешний диаметр 22”, толщина 1”, нержавеющая сталь
 Верхняя пластина:  Внешний диаметр 22”, толщина 1”, нержавеющая сталь
 Клапаны:  Электро-пневматические, нержавеющая сталь
 Мишени электронно-лучевой пушки:  4Х7 куб. см
 Электропитание электронно-лучевой пушки:  6 кВт
 Тлеющий разряд:  Переменный ток, самоограниченный блок питания
 Нагреватель:  Кварцевые лампы 1,4 кВт
 Датчики:  Ионный датчик; термопарный датчик; Пирани
 Контроль толщины:  Maxtek 100
 Управление:  Встроенный ПЛК
 Стойка:  Алюминиевые профили
Подъемники (нижняя и верхняя пластины): Электрические подъемники с приводом от ходового винта, с вакуумной блокировкой, с верхними и нижними концевыми выключателями

Особенности:


  • Лучшее сочетание цены и возможностей для промышленной установки с малыми габаритами
  • Две параллельные технологические камеры с одной откачивающей системой
  • Программа изоляции вакуумной установки
  • Установка полностью автоматизирована с помощью ПЛК
  • Верхние и нижние пластины могут быть подняты и повернуты для облегчения загрузки
  • Источник электронно-лучевого испарения, подходящий для TiO2, Ni, Cr, Co, SiO2, HfO2, MgF2, Au, Pt, Ta, Al2O3

tfds 663


Основные системы и установки компании VST:


Основные выпускаемые продукты и компоненты:


  • Термическое испарение
  • Магнетронное распыление
  • Электронно-лучевое испарение
  • Вакуумные печи
  • Вакуумные плавильные установки
  • Вакуумные тестовые камеры
  • Элементы вакуумных систем

Избранные проекты выполненные нашей компанией с применением систем данного производителя:


  • Электронно-лучевое испарение металлов для создания сверхпроводящих пленок на установке TFDS-462B
  • Магнетронное распыление материалов типа NiCr, РС-3710 и др. для осаждения резистивных пленок на подложки 48 х60 мм на установке TFSP-840
  • Электронно-лучевое и термическое испарение разных материалов на установке TFDS-462B

Дополнительная информация:


  • Технологии вакуумного напыления тонких пленок
  • Элементы ваккумных систем
  • Расходные материалы



Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.

^ В НАЧАЛО