MARK 50 / MARK 40CHA Industries
Вакуумная электронно-лучевая установка нанесения тонких пленок, модели MARK 50/40
Область применения:
Установки серии MARK являются «де-факто» стандартом в полупроводниковой промышленности. Они обеспечивают однородность нанесения пленки +/-3% и лучше и воспроизводимость от подложки к подложке +/- 3% и лучше. Системы выпускаются в различных модификациях: от полностью автоматизированного компьютерного управления до ручного. Они экономичны в использовании, обеспечивают быструю загрузку/выгрузку, обеспечивают широчайшие возможности для разных процессов и могут работать с практически любыми размерами, формами подложек из разных маетриалов. Эффективность дизайна серии установок MARK, легкость работы с ними и непревзойденная надежность делают их прекрасным выбором как для массового производства, так и для научных разработок и исследований.
Техническая спецификация:
- Возможность совмещения термического испарения и распыления
- Устройство перемещения подложек
- Однородность покрытий: +/-3% и лучше, воспроизводимость: +/-3% и лучше
- Осаждение пленок снизу-вверх
- Оборудование для процессов:
Сферические катоды, ВЧ или постоянный ток (до 4шт). | Электронная пушка. |
Со-осаждение. | Резистивные источники. |
Смещение, ВЧ или постоянный ток. | Подтрав распылением. |
Нагрев подложек до 400°С, многоэлементный. | Травление/предварительная очистка ионным пучком. |
Нагрев подложек, станция. | Травление/модификация поверхности в плазме. |
- Источники питания для испарителей:
- Электронная пушка: 6-10-15 кВт
- Распыление: 1-3-5-15-30 кВт
- Нагреватель: 6-10-16 кВт
- Термическое осаждение: 1-5-10 кВт
- Рабочая камера (возможное оснащение):
Спектрофотометр | Изоляция источника |
Drop well source | Автоматическая загрузка подложек |
Легкий доступ к передней и задней дверцам | Напыление на рулонные материалы |
Изменение расстояния от источника до подложек | Система загрузки и выгрузки рулонных материалов |
Различное расположение портов и смотровых окон | Автоматическая загрузка подложек |
-
Подложкодержатели:
С регулируемым углом. | Планетарный в плоскости. |
Вращающийся диск. | Механизм для осаждения на рулоны. |
Вращающийся купол. | Заслонка(и). |
Вертикальный барабан. | Планетарный в полусфере. |
Lift off. |
-
Элементы системы откачки:
Сухая или масляная форвакуумная откачка. | Высоковакуумный затвор вертикального типа 406 мм в диаметре. |
Опции регенерации. | Клапаны форвакуумной линии вертикального типа 75 мм в диам. |
Знаменитая откачка под прямым углом. | Контроллер ионизационного датчика. |
Очень высокая скорость откачки. | Система контроля подачи газов. |
Опция насоса для откачки паров воды. | Ловушка с молекулярным ситом. |
Ловушка холодного типа, LN2. | Контроль уровня LN2. |
- Выбор насосов:
- диффузионный
- турбомолекулярный
- криогенный насосы
- Предельный вакуум:
- Система 10-9 Торр
- Камера 10-8 Торр
- Получение 10-7 Торр за менее чем 25 мин
- Дополнительный крионасос:
- Крионасос производительностью 50000 л/с для быстрой откачки паров воды.
Особенности:
- Отличный дизайн: ЦИЛИНДРИЧЕСКАЯ ВАКУУМНАЯ КАМЕРА ГОРИЗОНТАЛЬНОГО ТИПА С ДВУМЯ ТОРЦЕВЫМИ ДВЕРЬМИ!!!
- Установка серии MARK может выпускаться в двух спецификациях, включая термическое испарение и распыление или в комбинированном исполнении: например, осаждение барьерного слоя из TiW и поверхностную пленку из Алюминия посредством электронно-лучевой пушки.
- Высокая скорость загрузки и разгрузки.
- Эксплуатационная гибкость.
- Современная система управления, дополнительная система PLC/PC.
- Удобство в эксплуатации: система оснащена уникальной, запатентованной скользящей дверцей на передней стенке камеры, которая уменьшает необходимое для работы пространство и обеспечивает легкий доступ.
- Поддержка подложек из множества различных материалов и разных размеров.
- Изолирование источника в загрузочной камере, что позволяет обособленно откачивать рабочую камеру до высокого вакуума, прежде чем подвергать ее воздействию со стороны камеры источника, а также проводить предварительные процессы в рабочей камере обособленно от источников.
- Эффективность дизайна, легкость в управлении и несравнимая надежность делают эту систему прекрасным выбором для широкого ряда производственных применений.
- Каждая установка комплектуется индивидуально, чтобы отвечать всем необходимым требованиям заказчика.
- Компоненты системы выбираются таким образом, чтобы оптимизировать стоимость ее производства, производительность и качество.
Брошюра на англ. языке на модель mark 50/40: cha_mk50_brochure.pdf
Брошюра на модель установки MARK 50 в модификации напыления тонких пленок на рулонные материалы: cha_web_roll_brochure.pdf
Основные системы и установки CHA Industries:
Основные выпускаемые продукты и компоненты:
- Термическое испарение
- Магнетронное распыление
- Электронно-лучевое испарение
- Электронно-лучевые источники
- Источники питания испарителей
- Вакуумные вводы и подложкодержатели
Дополнительная информация:
- Технологии вакуумного напыления тонких пленок
- Элементы ваккумных систем
- Расходные материалы
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.