+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems-mve.ru


MARK 50 / MARK 40CHA Industries

Вакуумная электронно-лучевая установка нанесения тонких пленок, модели MARK 50/40


MARK 50 / MARK 40

Область применения:


Установки серии MARK являются «де-факто» стандартом в полупроводниковой промышленности. Они обеспечивают однородность нанесения пленки +/-3% и лучше и воспроизводимость от подложки к подложке +/- 3% и лучше. Системы выпускаются в различных модификациях: от полностью автоматизированного компьютерного управления до ручного. Они экономичны в использовании, обеспечивают быструю загрузку/выгрузку, обеспечивают широчайшие возможности для разных процессов и могут работать с практически любыми размерами, формами подложек из разных маетриалов. Эффективность дизайна серии установок MARK, легкость работы с ними и непревзойденная надежность делают их прекрасным выбором как для массового производства, так и для научных разработок и исследований.

Техническая спецификация:


  • Возможность совмещения термического испарения и распыления
  • Устройство перемещения подложек 
  • Однородность покрытий:  +/-3% и лучше, воспроизводимость: +/-3% и лучше
  • Осаждение пленок снизу-вверх
  • Оборудование для процессов:
Сферические катоды, ВЧ или постоянный ток (до 4шт). Электронная пушка.
Со-осаждение. Резистивные источники.
Смещение, ВЧ или постоянный ток. Подтрав распылением.
Нагрев подложек до 400°С, многоэлементный. Травление/предварительная очистка ионным пучком.
Нагрев подложек, станция. Травление/модификация поверхности в плазме.
  • Источники питания для испарителей:
    • Электронная пушка: 6-10-15 кВт
    • Распыление: 1-3-5-15-30 кВт
    • Нагреватель: 6-10-16 кВт
    • Термическое осаждение:  1-5-10 кВт
  • Рабочая камера (возможное оснащение):
Спектрофотометр Изоляция источника
Drop well source Автоматическая загрузка подложек
Легкий доступ к передней и задней дверцам Напыление на рулонные материалы
Изменение расстояния от источника до подложек Система загрузки и выгрузки рулонных материалов
Различное расположение портов и смотровых окон Автоматическая загрузка подложек
  • Подложкодержатели:
С регулируемым углом. Планетарный в  плоскости.
Вращающийся диск. Механизм для осаждения на рулоны.
Вращающийся купол. Заслонка(и).
Вертикальный барабан. Планетарный в полусфере.
  Lift off.
  • Элементы системы откачки:
Сухая или масляная форвакуумная откачка. Высоковакуумный затвор вертикального типа 406 мм в диаметре.
Опции регенерации. Клапаны форвакуумной линии вертикального типа 75 мм в диам.
Знаменитая откачка под прямым углом. Контроллер ионизационного датчика.
Очень высокая скорость откачки. Система контроля подачи газов.
Опция насоса для откачки паров воды. Ловушка с молекулярным ситом.
Ловушка холодного типа, LN2. Контроль уровня LN2.
  • Выбор насосов:
    • диффузионный
    • турбомолекулярный
    • криогенный насосы
  • Предельный вакуум:
    • Система 10-9 Торр
    • Камера 10-8 Торр
    • Получение 10-7 Торр за менее чем 25 мин
  • Дополнительный крионасос:
    • Крионасос производительностью 50000 л/с для быстрой откачки паров воды. 

Особенности:


  • Отличный дизайн: ЦИЛИНДРИЧЕСКАЯ ВАКУУМНАЯ КАМЕРА ГОРИЗОНТАЛЬНОГО ТИПА С ДВУМЯ ТОРЦЕВЫМИ ДВЕРЬМИ!!!
  • Установка серии MARK может выпускаться в двух спецификациях, включая термическое испарение и распыление или в комбинированном исполнении: например, осаждение барьерного слоя из TiW и поверхностную пленку из Алюминия посредством электронно-лучевой пушки.
  • Высокая скорость загрузки и разгрузки.
  • Эксплуатационная гибкость.
  • Современная система управления, дополнительная система PLC/PC.
  • Удобство в эксплуатации: система оснащена уникальной, запатентованной скользящей дверцей на передней стенке камеры, которая уменьшает необходимое для работы пространство и обеспечивает легкий доступ.
  • Поддержка подложек из множества различных материалов и разных размеров.
  • Изолирование источника в загрузочной камере, что позволяет обособленно откачивать рабочую камеру до высокого вакуума, прежде чем подвергать ее воздействию со стороны камеры источника, а также проводить предварительные процессы в рабочей камере обособленно от источников.
  • Эффективность дизайна, легкость в управлении и несравнимая надежность делают эту систему прекрасным выбором для широкого ряда производственных применений.
  • Каждая установка комплектуется индивидуально, чтобы отвечать всем необходимым требованиям заказчика.
  • Компоненты системы выбираются таким образом, чтобы оптимизировать стоимость ее производства, производительность и качество.

Брошюра на англ. языке на модель mark 50/40: cha_mk50_brochure.pdf

Брошюра на модель установки MARK 50  в модификации напыления тонких пленок на рулонные материалы: cha_web_roll_brochure.pdf



Основные системы и установки CHA Industries:


Основные выпускаемые продукты и компоненты:


  • Термическое испарение
  • Магнетронное распыление
  • Электронно-лучевое испарение
  • Электронно-лучевые источники
  • Источники питания испарителей
  • Вакуумные вводы и подложкодержатели

    


Дополнительная информация:


  • Технологии вакуумного напыления тонких пленок
  • Элементы ваккумных систем
  • Расходные материалы



Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.

^ В НАЧАЛО