Easy Tube 4000

EasyTube™ 4000 - усовершенствованная установка, реализующая процесс CVD для синтеза широкого круга наноструктурированных материалов, нанесения тонких пленок и отжига. Позволяет производить бесчисленное множество наноструктур, включая SWNT, MWNT, графен, полупроводниковые нанопровода такие как Si, Ge, ZnO, GaN, BN, тонкие пленки (SiGe, SiO2, Si3N4 и др.) при помощи гидридов, жидких и твердых прекурсоров.

Система EasyTube™ 4000 сконструирована в соответствии с современными стандартами по безопасности, может эксплуатироваться с воспламеняющимися газами и высокотоксичными компонентами, включая силан, герман, диборан, фосфин, HCl и металл‐органические прекурсоры.

Область применения:

Наноэлектроника, производство полупроводников, фотовольтаика, MEMS, создание композитных и структурных покрытий и др.

Примеры пленок :

• Silicon Nitride (SiN)
• Silicon Oxide (SiO)
• Silicon Dioxide (SiO₂)
• Silicon OxyNitride (SiON)
• Diamond Like Carbon (DLC)
• Amorphous Silicon (a-Si)
• Poly Silicon (poly-Si)

Система EasyTube™ 4000 предлагается в двух основных конфигурациях:

• EasyTube™ 4200 для работы с подложками до 100 мм

• EasyTube™ 4300 для работы с подложками до 150 мм и опциональной загрузочной камерой
  

Стандартная спецификация:

• Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows.
• Запрограммированные рецепты для SWCNT, DWCNT, полупроводниковых нанопроводов, диэлектрических и SiGe тонких пленок
• 3-зонная резистивная печь для температур до 1100 °C ( ВЧ нагрев до 1500 °C, опция )
• Высокая производительность системы с печью FastCool
• Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени
• Консольная система автоматической загрузки
• Кварцевая реакционная камера диаметром 5”
• Работа с подложками до 150 мм в диаметре
• Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт.
• Программируемые предупреждения и сигналы тревоги
• Гарантия 12 месяцев
• Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств
• Сертификация Semi – S2/S8 и CE®

Брошюра модели EasyTube 4000 на рус. языке: ET4000.pdf

Сравнительная таблица CVD систем: ET_Comparison.pdf

Основные системы и установки firstnano:

• Easy Tube 101
• Easy Tube 2000
• Easy Tube 3000
• Easy Tube 4000
• Easy Tube 5000
• Easy Tube 6000

Дополнительная информация:

• Технологии химического пароосаждения тонких пленок
• Элементы CVD систем
• Расходные материалы

Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.