Имплантер модели IMC-400Ионная имплантация |
Ion Beam Services |
Имплантер модели IMC-400, разработанный компанией «Ion Beam Services», предназначен для решения производственных задач и для проведения исследований при имплантации стандартных и/или редко применяемых примесей.
Варианты исполнения |
|
Имплантация |
Имплантация стандартных (B, F, As, Ar и др.) и редко применяемых ионов. Всего более 60 материалов. Диапазон энергий: от 30 до 400 кэВ. Возможность имплантации двух- и трех- зарядных ионов. M/ΔM ≥100. Угол имплантации при комнатных температурах - от 0° до 45°. Дозы: от 1х1011 at/см2 до 1х1018 at/см2. Неоднородность дозы по всей области имплантации: ≤ 1.0% (при комнатной температуре). Неоднородность пластины к пластине: ≤ 1.0% |
Подложки |
Совместим с подложками из Si, SiC, GaAs, Al2O3. Размер: от 1 см2 до 150 мм в диаметре. Любой угол наклона и поворота пластин в процессе. |
Пучок |
Для 75As, 31P ≥ 300 мкА Для 11В ≥ 150 мкА |
Особенности:
- Низкая стоимость эксплуатации.
- Доказанная надежность работы.
- Программы поддержки при разработке процессов имплантации примесей.
- Легкость техобслуживания и ремонта.
- Учет пожеланий заказчика при разработке и модификации имплантера.
- Широкий ряд предлагаемых опций, в т.ч. набор опций типа «включил и работай» для применений от -150°С до +600°С.
- Возможно применение 2-х конечных станций, одна из которых будет служить для R&D применений и использовать загрузку в ручном режиме, а во второй можно осуществлять загрузку подложек при помощи робота.
- Разработанный модуль векторного сканирования позволяет осуществлять легкий выбор из запрограммированных или самостоятельно разработанных пользователем схем сканирования.
Опции:
Ионные источники: Бернаса, Фримана, Твердотельный источник, Специальный IBS источник для Al, источник распыления.
Имплантация двойного заряда.
Имплантация ионов низкой энергии (2 кэВ).
Подача рабочих веществ из жидкой фазы.
Нагрев подложек.
Охлаждение подложек: водой, жидким азотом ( -150°С).
Робот-податчик (на 25 пластин).
Дополнительная информация:
- Технологии (Ионная имплантация)
- Расходные материалы (запчасти к имплантерам)
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.