Имплантер модели IMC-400

Ионная имплантация

Имплантер модели IMC-400, разработанный компанией «Ion Beam Services», предназначен для решения производственных задач и для проведения исследований при имплантации стандартных и/или редко применяемых примесей.

Варианты исполнения	Высокопроизводительная модель IMC-400P: для подачи подложек в автоматическом режиме (используется робот-загрузчик) Модель IMC-400RD: для исследований, разработок и выпуска небольших серий пластин (4 подложки на цикл). Младшая модель IMC-400 для специальных применений.
Имплантация	Имплантация стандартных (B, F, As, Ar и др.) и редко применяемых ионов. Всего более 60 материалов. Диапазон энергий: от 30 до 400 кэВ. Возможность имплантации двух- и трех- зарядных ионов. M/ΔM ≥100. Угол имплантации при комнатных температурах - от 0° до 45°. Дозы: от 1х10¹¹at/см2 до 1х10¹⁸ at/см2. Неоднородность дозы по всей области имплантации: ≤ 1.0% (при комнатной температуре). Неоднородность пластины к пластине: ≤ 1.0%
Подложки	Совместим с подложками из Si, SiC, GaAs, Al2O3. Размер: от 1 см² до 150 мм в диаметре. Любой угол наклона и поворота пластин в процессе.
Пучок	Для ⁷⁵As, ³¹P ≥ 300 мкА Для ¹¹В ≥ 150 мкА

Особенности:

Низкая стоимость эксплуатации.
Доказанная надежность работы.
Программы поддержки при разработке процессов имплантации примесей.
Легкость техобслуживания и ремонта.
Учет пожеланий заказчика при разработке и модификации имплантера.
Широкий ряд предлагаемых опций, в т.ч. набор опций типа «включил и работай» для применений от -150°С до +600°С.
Возможно применение 2-х конечных станций, одна из которых будет служить для R&D применений и использовать загрузку в ручном режиме, а во второй можно осуществлять загрузку подложек при помощи робота.
Разработанный модуль векторного сканирования позволяет осуществлять легкий выбор из запрограммированных или самостоятельно разработанных пользователем схем сканирования.

Опции:

Ионные источники: Бернаса, Фримана, Твердотельный источник, Специальный IBS источник для Al, источник распыления.

Имплантация двойного заряда.

Имплантация ионов низкой энергии (2 кэВ).

Подача рабочих веществ из жидкой фазы.

Нагрев подложек.

Охлаждение подложек: водой, жидким азотом ( -150°С).

Робот-податчик (на 25 пластин).

Дополнительная информация:

Технологии (Ионная имплантация)
Расходные материалы (запчасти к имплантерам)

Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.