+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems.ru

Имплантер модели IMC-200

Ионная имплантация

Ion Beam Services

Имплантер модели imc-200

 

Имплантер модели IMC-200, разработанный компанией «Ion Beam Services», предназначен для решения производственных задач и для проведения исследований при имплантации стандартных и/или редко применяемых примесей.

 

Варианты исполнения
  1. Высокопроизводительная модель IMC-200P: для подачи подложек в автоматическом режиме (используется робот-загрузчик)
  2. Модель IMC-200RD: для исследований, разработок и выпуска небольших серий пластин (4 подложки на цикл).
  3. Младшая модель IMC-200 для специальных применений.
Имплантация

Имплантация стандартных (B, F, As, Ar и др.) и редко применяемых ионов. Всего более 60 материалов.

 Диапазон энергий: от 2 до 210 кэВ. Возможность имплантации двух- и трех- зарядных ионов.

M/ΔM ≥100. 

Угол имплантации при комнатных температурах - от 0° до 45°.

Дозы: от 1х1011 at/см2 до 1х1018 at/см2.

Неоднородность дозы по всей области имплантации: ≤ 1.0% (при комнатной температуре).

Неоднородность пластины к пластине: ≤ 1.0%
Подложки

Совместим с подложками из Si, SiC, GaAs, Al2O3.

Размер: от 1 см2 до 150 мм в диаметре. Любой угол наклона и поворота пластин в процессе.
Пучок

Для  75As, 31P ≥ 300 мкА

Для  11В ≥ 150 мкА

 

Особенности:


  • Низкая стоимость эксплуатации.
  • Доказанная надежность работы.
  • Программы поддержки при разработке процессов имплантации примесей.
  • Легкость техобслуживания и ремонта.
  • Учет пожеланий заказчика при разработке и модификации имплантера.
  • Широкий ряд предлагаемых опций, в т.ч. набор опций типа «включил и работай» для применений от -150°С до +600°С.
  • Возможно применение 2-х конечных станций, одна из которых будет служить для R&D применений и использовать загрузку в ручном режиме, а во второй можно осуществлять загрузку подложек при помощи робота.
  • Разработанный модуль векторного сканирования позволяет осуществлять легкий выбор из запрограммированных или самостоятельно разработанных пользователем схем сканирования.

Опции:


Ионные источники: Бернаса, Фримана, Твердотельный источник, Специальный IBS источник для Al, источник распыления.

Имплантация двойного заряда.

Имплантация ионов низкой энергии (2 кэВ).

Подача рабочих веществ из жидкой фазы.

Нагрев подложек.

Охлаждение подложек: водой, жидким азотом ( -150°С).

Робот-податчик (на 25 пластин).


Проспект на модель IMC-200: IBS_IMC-200.pdf


Дополнительная информация:




Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.

^ В НАЧАЛО