+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems.ru


Easy Tube 6000Firstnano

Термическое газо-фазное осаждение паров (CVD) для синтеза наноструктурированных материалов


easytube 6000EasyTube™6000 - современная промышленная высокопроизводительная система с горизонтальной печью любых термических CVD-процессов (APCVD), окисления, отжига, диффузионных и плазменных процессов, CVD-процессов при пониженном давлении (LPCVD). Различные конфигурации установок, от 1 до 4 реакционных камер для работы при атмосферном давлении или в вакууме (с возможностью последующего дооснащения), позволяют значительно экономить рабочее пространство. Конструкция камеры зависит от процессов, для которых она будет применяться (один или несколько процессов в одной камере).

 

Система оснащена консольной системой загрузки с HEPA фильтром. Такая конфигурация уменьшает генерацию частиц в реакторе и позволяет работать с кусками пластин, отдельными пластинами или массивом пластин.

 

Система EasyTube™ 3000 сконструирована в соответствии с современными стандартами по безопасности, может эксплуатироваться практически с любыми газами и высокотоксичными компонентами, включая силан, герман, диборан, фосфин, HCl и металл‐органические прекурсоры.

 

Область применения:


Процессы (основные)

Промышленное производство подложек с выращенным массивом вертикально-ориентированных углеродных нанотрубок.

 

Окисление

  • Сухое (кислород)
  • Влажное (подача из испарителя -барботера)
  • Пирогенное окисление с использованием отдельной камеры  для получения чистого пара

 

Диффузия и отжиг:

  • Инертный газ
  • Рабочий газ
  • Газ специального назначения
  • Внесение примесей (легирование) с подачей из источника с жидким прекурсором
  • Внесение примесей (легирование) с подачей из газообразного источника
  • Внесение примесей (легирование) с подачей от твердого источника

 

LPCVD:

  • Поликремний
  • Диоксид кремния
  • Нитрид кремния
  • Оксинитрид кремния

 

Конфигурация:

  • Левосторонняя
  • Правосторонняя
  • Реакторы вертикально сверху
  • Ballroom

Стандартная спецификация:


  • Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows.
  • От 1 до 4-х реакционных камер
  • 3-зонная резистивная печь (опционально – 5-зонная)
  • До 25-50 пластин/цикл, в зависимости от процесса (более высокие производительности – по запросу)
  • Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени
  • Консольная система автоматической загрузки
  • Работа с подложками до 150 мм (4 реактора) с подложками до 200 мм и больше  (3 реактора)
  • Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт. (для каждой камеры)
  • Процессы при атмосферном давлении или в вакууме
  • Программируемые предупреждения и сигналы тревоги
  • Гарантия 12 месяцев
  • Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств
  • Сертификация Semi – S2/S8 и CE®

Брошюра на англ. языке: ET6000.pdf

Сравнительная таблица CVD систем: ET_Comparison.pdf


Основные системы и установки firstnano:


Дополнительная информация:


  • Технологии химического пароосаждения тонких пленок
  • Элементы CVD систем
  • Расходные материалы



Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.

^ В НАЧАЛО