Easy Tube 6000Firstnano
Термическое газо-фазное осаждение паров (CVD) для синтеза наноструктурированных материалов
EasyTube™6000 - современная промышленная высокопроизводительная система с горизонтальной печью любых термических CVD-процессов (APCVD), окисления, отжига, диффузионных и плазменных процессов, CVD-процессов при пониженном давлении (LPCVD). Различные конфигурации установок, от 1 до 4 реакционных камер для работы при атмосферном давлении или в вакууме (с возможностью последующего дооснащения), позволяют значительно экономить рабочее пространство. Конструкция камеры зависит от процессов, для которых она будет применяться (один или несколько процессов в одной камере).
Система оснащена консольной системой загрузки с HEPA фильтром. Такая конфигурация уменьшает генерацию частиц в реакторе и позволяет работать с кусками пластин, отдельными пластинами или массивом пластин.
Система EasyTube™ 3000 сконструирована в соответствии с современными стандартами по безопасности, может эксплуатироваться практически с любыми газами и высокотоксичными компонентами, включая силан, герман, диборан, фосфин, HCl и металл‐органические прекурсоры.
Область применения:
Процессы (основные)
Промышленное производство подложек с выращенным массивом вертикально-ориентированных углеродных нанотрубок.
Окисление
- Сухое (кислород)
- Влажное (подача из испарителя -барботера)
- Пирогенное окисление с использованием отдельной камеры для получения чистого пара
Диффузия и отжиг:
- Инертный газ
- Рабочий газ
- Газ специального назначения
- Внесение примесей (легирование) с подачей из источника с жидким прекурсором
- Внесение примесей (легирование) с подачей из газообразного источника
- Внесение примесей (легирование) с подачей от твердого источника
LPCVD:
- Поликремний
- Диоксид кремния
- Нитрид кремния
- Оксинитрид кремния
Конфигурация:
- Левосторонняя
- Правосторонняя
- Реакторы вертикально сверху
- Ballroom
Стандартная спецификация:
- Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows.
- От 1 до 4-х реакционных камер
- 3-зонная резистивная печь (опционально – 5-зонная)
- До 25-50 пластин/цикл, в зависимости от процесса (более высокие производительности – по запросу)
- Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени
- Консольная система автоматической загрузки
- Работа с подложками до 150 мм (4 реактора) с подложками до 200 мм и больше (3 реактора)
- Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт. (для каждой камеры)
- Процессы при атмосферном давлении или в вакууме
- Программируемые предупреждения и сигналы тревоги
- Гарантия 12 месяцев
- Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств
- Сертификация Semi – S2/S8 и CE®
Брошюра на англ. языке: ET6000.pdf
Сравнительная таблица CVD систем: ET_Comparison.pdf
Основные системы и установки firstnano:
Дополнительная информация:
- Технологии химического пароосаждения тонких пленок
- Элементы CVD систем
- Расходные материалы
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.