Easy Tube 5000Firstnano
Термическое газо-фазное осаждение паров (CVD) для синтеза наноструктурированных материалов
EasyTube™5000 - это установка для исследовательских задач при осаждении разных III – V и II – VI пленок.
Система работает с подложками до 150 мм в диаметре и осуществляет следующие процессы:
- III-V (GaN, GaAs, AlGaN, InP, др.)
- II-VI (ZnO, ZnS)
- IV (Si, Ge, Напряженные пленки Si)
- Пленки разных составов
Возможность расширения для работы с подложками больше чем 150 мм
Брошюра на англ. языке: ET5000.pdf
Основные системы и установки firstnano:
Дополнительная информация:
- Технологии химического пароосаждения тонких пленок
- Элементы CVD систем
- Расходные материалы
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.