+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems-mve.ru


Easy Tube 5000Firstnano

Термическое газо-фазное осаждение паров (CVD) для синтеза наноструктурированных материалов


easytube 5000

 

EasyTube™5000 -   это установка для исследовательских задач при осаждении разных III – V и  II – VI пленок.

Система работает с подложками до 150 мм в диаметре и осуществляет следующие процессы:

  • III-V (GaN, GaAs, AlGaN, InP, др.)
  • II-VI (ZnO, ZnS)
  • IV (Si, Ge, Напряженные пленки Si)
  • Пленки разных составов

Возможность расширения для работы с подложками больше чем 150 мм


Брошюра на англ. языке: ET5000.pdf


Основные системы и установки firstnano:


Дополнительная информация:


  • Технологии химического пароосаждения тонких пленок
  • Элементы CVD систем
  • Расходные материалы



Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.

^ В НАЧАЛО