+7 (495) 663-30-39
+7 (495) 663-30-67
tech@cryosystems-mve.ru


Easy Tube 3000Firstnano

Термическое газо-фазное осаждение паров (CVD) для синтеза наноструктурированных материалов


easytube 3000EasyTube™3000 - усовершенствованная установка, реализующая процесс CVD для синтеза широкого круга наноструктурированных материалов, нанесения тонких пленок и отжига. Позволяет производить бесчисленное множество наноструктур, включая SWNT, MWNT, графен, полупроводниковые нанопровода такие как Si, Ge, ZnO, GaN, BN, тонкие пленки (SiGe, SiO2, Si3N4 и др.) при помощи гидридов, жидких и твердых прекурсоров.

 

Система EasyTube™ 3000 сконструирована в соответствии с современными стандартами по безопасности, может эксплуатироваться с воспламеняющимися газами и высокотоксичными компонентами, включая силан, герман, диборан, фосфин, HCl и металл‐органические прекурсоры.

 

Область применения:


Наноэлектроника, производство полупроводников, фотовольтаика, MEMS, создание композитных и структурных покрытий и др.

Стандартная спецификация:


  • Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows
  • Запрограммированные рецепты для SWCNT, DWCNT, полупроводниковых нанопроводов, диэлектрических и SiGe тонких пленок
  • 3-зонная резистивная печь для температур до 1100 °C ( ВЧ нагрев до 1500 °C, опция )
  • Высокая производительность системы с печью FastCool
  • Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени
  • Консольная система автоматической загрузки
  • Кварцевая реакционная камера диаметром 5”
  • Работа с подложками до 150 мм в диаметре
  • Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт.
  • Программируемые предупреждения и сигналы тревоги
  • Гарантия 12 месяцев
  • Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств
  • Сертификация Semi – S2/S8 и CE®

Брошюра на русском языке: FirstNano_EasyTube_3000_rus.pdf

Сравнительная таблица CVD систем: ET_Comparison.pdf


Основные системы и установки firstnano:


Дополнительная информация:


  • Технологии химического пароосаждения тонких пленок
  • Элементы CVD систем
  • Расходные материалы



Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.

^ В НАЧАЛО