Easy Tube 3000Firstnano
Термическое газо-фазное осаждение паров (CVD) для синтеза наноструктурированных материалов
EasyTube™3000 - усовершенствованная установка, реализующая процесс CVD для синтеза широкого круга наноструктурированных материалов, нанесения тонких пленок и отжига. Позволяет производить бесчисленное множество наноструктур, включая SWNT, MWNT, графен, полупроводниковые нанопровода такие как Si, Ge, ZnO, GaN, BN, тонкие пленки (SiGe, SiO2, Si3N4 и др.) при помощи гидридов, жидких и твердых прекурсоров.
Система EasyTube™ 3000 сконструирована в соответствии с современными стандартами по безопасности, может эксплуатироваться с воспламеняющимися газами и высокотоксичными компонентами, включая силан, герман, диборан, фосфин, HCl и металл‐органические прекурсоры.
Область применения:
Наноэлектроника, производство полупроводников, фотовольтаика, MEMS, создание композитных и структурных покрытий и др.
Стандартная спецификация:
- Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать процессы, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows
- Запрограммированные рецепты для SWCNT, DWCNT, полупроводниковых нанопроводов, диэлектрических и SiGe тонких пленок
- 3-зонная резистивная печь для температур до 1100 °C ( ВЧ нагрев до 1500 °C, опция )
- Высокая производительность системы с печью FastCool
- Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени
- Консольная система автоматической загрузки
- Кварцевая реакционная камера диаметром 5”
- Работа с подложками до 150 мм в диаметре
- Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт.
- Программируемые предупреждения и сигналы тревоги
- Гарантия 12 месяцев
- Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств
- Сертификация Semi – S2/S8 и CE®
Брошюра на русском языке: FirstNano_EasyTube_3000_rus.pdf
Сравнительная таблица CVD систем: ET_Comparison.pdf
Основные системы и установки firstnano:
Дополнительная информация:
- Технологии химического пароосаждения тонких пленок
- Элементы CVD систем
- Расходные материалы
Запрос на интересующее оборудование Вы можете прислать нам по адресу: tech@cryosystems.ru или по факсу +7 (495) 663-3039 для отдела оборудования для микро- и наноэлектроники и мы вышлем Вам коммерческое предложение или предоставим дополнительную информацию в разумные сроки.